Investigation of the Physical Properties of Plasma Enhanced Atomic Layer Deposited Silicon Nitride as Etch Stopper
| Imagen |  |
|---|---|
| Descripción | artículo científico publicado en 2018 |
| Autoría |
autor: Robert M Wallace Si Joon Kim Harrison Sejoon Kim Jiyoung Kim Lanxia Cheng Xin Meng |
| Fecha de publicación | 11 de diciembre de 2018 |
| Idioma | |
| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
| ¿Datos faltantes/errados? | Editar ítem de Wikidata |