High Aspect Ratio β-Ga2O3 Fin Arrays with Low-Interface Charge Density by Inverse Metal-Assisted Chemical Etching
| Imagen |  |
|---|---|
| Descripción | |
| Autoría |
autor: Munho Kim Xiuling Li Jian-Min Zuo Hsien-Chih Huang Yuhui Ma |
| Fecha de publicación | 24 de junio de 2019 |
| Idioma | |
| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Private domain |
| ¿Datos faltantes/errados? | Editar ítem de Wikidata |