A new etching process for zinc oxide with etching rate and crystal plane control: experiment, calculation, and membrane application

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Descripción	artículo científico publicado en 2019
Autoría	autor: Taekyung Yu  Jeong Woo Han  Kyeounghak Kim  Sung Jong Yoo
Fecha de publicación	19 de junio de 2019
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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