Etched ion tracks in amorphous SiO2 characterized by small angle x-ray scattering: influence of ion energy and etching conditions

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Descripción	artículo científico publicado en 2019
Autoría	autor: Patrick Kluth  María Eugenia Toimil-Molares  Christina Trautmann
Fecha de publicación	18 de marzo de 2019
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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