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First principles mechanistic study of self-limiting oxidative adsorption of remote oxygen plasma during the atomic layer deposition of alumina

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Descripción artículo científico publicado en 2018
Autoría

autor: Simon D. Elliott  Michael Nolan 

Fecha de publicación 1 de septiembre de 2018
Idioma
País de origen
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Estatus de derecho de autor Desconocido
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