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Schottky Barrier Height Engineering for Electrical Contacts of Multilayered MoS2 Transistors with Reduction of Metal-Induced Gap States

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Descripción
Autoría

autor: Hyun-Yong Yu  Seung-Hwan Kim  Jiyoung Kim  Gwang-Sik Kim 

Fecha de publicación 6 de junio de 2018
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