A novel 2-step ALD route to ultra-thin MoS2 films on SiO2 through a surface organometallic intermediate
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|---|---|
| Descripción | artículo científico publicado en 2017 |
| Autoría |
autor: Mathieu Frégnaux Chloé Thieuleux Elsje Alessandra Quadrelli François Martin |
| Fecha de publicación | 1 de enero de 2017 |
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| País de origen | |
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| Estatus de derecho de autor | Private domain |
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