Nanoimprinting ultrasmall and high-aspect-ratio structures by using rubber-toughened UV cured epoxy resist

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Descripción	artículo científico publicado el 24 de mayo de 2013
Autoría	autor: L. Jay Guo
Fecha de publicación	24 de mayo de 2013
Idioma	inglés
País de origen
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Acceder a la obra	http://stacks.iop.org/0957-4484/24/i=25/a=255302/pdf
Estatus de derecho de autor	Desconocido
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