Nanoscale, catalytically enhanced local oxidation of silicon-containing layers by ‘burrowing’ Ge quantum dots

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Descripción	artículo científico publicado el 3 de octubre de 2011
Autoría	autor: Axel Scherer
Fecha de publicación	3 de octubre de 2011
Idioma	inglés
País de origen
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Acceder a la obra	http://stacks.iop.org/0957-4484/22/i=43/a=435602/pdf
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