Fabrication of high-resolution large-area patterns using EUV interference lithography in a scan-exposure mode

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Descripción	artículo científico publicado el 10 de julio de 2012
Autoría	autor: Yasin Ekinci
Fecha de publicación	10 de julio de 2012
Idioma	inglés
País de origen
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Acceder a la obra	http://stacks.iop.org/0957-4484/23/i=30/a=305303/pdf
Estatus de derecho de autor	Desconocido
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