Growth of crystalline Gd2O3 thin films with a high-quality interface on Si(100) by low-temperature H2O-assisted atomic layer deposition

Imagen
Descripción	artículo científico publicado en 2010
Autoría	autor: Harish Parala  Roland A Fischer  Anjana Devi
Fecha de publicación	1 de enero de 2010
Idioma	inglés
País de origen
Enlace a Wikipedia
Estatus de derecho de autor	Desconocido
¿Datos faltantes/errados?	Editar ítem de Wikidata