Imido Complexes Derived from the Reactions of Niobium and Tantalum Pentachlorides with Primary Amines: Relevance to the Chemical Vapor Deposition of Metal Nitride Films

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Descripción
Autoría	autor: Arnold L. Rheingold  Brian S. Haggerty
Fecha de publicación	1 de agosto de 1996
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Private domain
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