Environment of hafnium and silicon in Hf-based dielectric films: An atomistic study by x-ray absorption spectroscopy and x-ray diffraction - Dominio Público Uruguay

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Environment of hafnium and silicon in Hf-based dielectric films: An atomistic study by x-ray absorption spectroscopy and x-ray diffraction

Autoría

Detalles de la obra

Fecha de publicación: 23 de mayo de 2005

Idioma: inglés

País de origen: Desconocido

Estado de los derechos de autor

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