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The Origin of Lower Hole Carrier Concentration in Methylammonium Tin Halide Films Grown by a Vapor-Assisted Solution Process

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Descripción
Autoría

autor: Tze-Bin Song  Shinji Aramaki  Takamichi Yokoyama  Mercouri Kanatzidis  Duyen H Cao  Constantinos C. Stoumpos 

Fecha de publicación 2 de diciembre de 2016
Idioma
País de origen
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