CMOS degradation effects due to electron beam lithography in smart NEMS fabrication
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Francesca Campabadal Gemma Rius C. Fleta Jaume Esteve |
| Fecha de publicación | 1 de julio de 2005 |
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| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
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