Electron beam lithography at 10keV using an epoxy based high resolution negative resist
| Imagen |  |
|---|---|
| Descripción | |
| Autoría |
autor: Andreu Llobera Gemma Rius |
| Fecha de publicación | mayo 2007 |
| Idioma | |
| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
| ¿Datos faltantes/errados? | Editar ítem de Wikidata |