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Nanomechanical Mass Sensor for Spatially Resolved Ultrasensitive Monitoring of Deposition Rates in Stencil Lithography

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Descripción artículo científico publicado en 2009
Autoría

autor: Nuria Barniol  Francesc Pérez-Murano  Marc Sansa  Gabriel Abadal  Arantxa Uranga 

Fecha de publicación 1 de febrero de 2009
Idioma
País de origen
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Estatus de derecho de autor Desconocido
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