Electron- and ion-beam lithography for the fabrication of nanomechanical devices integrated on CMOS circuits
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Gemma Rius Francesc Pérez-Murano Xavier Borrisé Jordi Llobet |
| Fecha de publicación | abril 2009 |
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| País de origen | |
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| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
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