Near-Field Lithography by Two-Photon Induced Photocleavage of Organic Monolayers
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|---|---|
| Descripción | artículo científico publicado en 2010 |
| Autoría |
autor: Andreas Best Aránzazu del Campo Kaloian Koynov Marcus Schmelzeisen José María Alonso |
| Fecha de publicación | 15 de octubre de 2010 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
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