High-aspect-ratio inductively coupled plasma etching of InP using SiH4/Cl2: Avoiding the effect of electrode coverplate material
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Gilles Patriarche |
| Fecha de publicación | marzo 2011 |
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| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
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