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Atomic layer lithography of wafer-scale nanogap arrays for extreme confinement of electromagnetic waves

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Descripción artículo científico publicado en 2013
Autoría

autor: Dai-Sik Kim  Matthew Pelton  Sang-Hyun Oh  Hyungsoon Im 

Fecha de publicación 1 de enero de 2013
Idioma inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor Private domain
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