Atomistic Simulation of the Formation of Nanoporous Silica Films via Molecular Chemical Vapor Deposition on Nonporous Substrates

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Descripción	artículo científico publicado en 2011
Autoría	autor: J. M. Don MacElroy  Damian A Mooney  Denis P Dowling
Fecha de publicación	10 de octubre de 2011
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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