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The influence of precursor on rhenium incorporation into Re-doped MoS2 (Mo1−xRexS2) thin films by aerosol-assisted chemical vapour deposition (AACVD)

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Descripción
Autoría

autor: David J Lewis  Sarah J. Haigh  Paul D McNaughter  Naktal Al-Dulaimi 

Fecha de publicación 2017
Idioma
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Estatus de derecho de autor Desconocido
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