Single-Source Precursor for Tungsten Dichalcogenide Thin Films: Mo1–xWxS2 (0 ≤ x ≤ 1) Alloys by Aerosol-Assisted Chemical Vapor Deposition

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Autoría	autor: David J Lewis  Sarah J. Haigh
Fecha de publicación	25 de abril de 2017
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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