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A Subtractive Photoresist Platform for Micro- and Macroscopic 3D Printed Structures

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Descripción
Autoría

autor: Hatice Mutlu  Lukas Michalek  Martin Wegener  Markus M. Zieger  Christopher Barner-Kowollik 

Fecha de publicación 22 de mayo de 2018
Idioma inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor Private domain
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