Modelling of reactors for plasma processing I. Silicon etching by CF4 in a radial flow reactor
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Klavs F. Jensen David B. Graves |
| Fecha de publicación | 1986 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Private domain |
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