Physical Vapor Deposition of [EMIM][Tf2N]: A New Approach to the Modification of Surface Properties with Ultrathin Ionic Liquid Films

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Descripción	artículo científico publicado en 2008
Autoría	autor: Peter Wasserscheid  Florian Maier  Hans-Peter Steinrück  Manuela S Killian
Fecha de publicación	1 de octubre de 2008
Idioma
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