Deposition of Niobium Nitride Thin Films fromTert-Butylamido-Tris-(Diethylamido)-Niobium by a Modified Industrial MOCVD Reactor

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Descripción
Autoría	autor: Harish Parala  Roland A Fischer  Alberto Gasparotto  Davide Barreca
Fecha de publicación	diciembre 2009
Idioma
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