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Rare-earth substituted HfO2 thin films grown by metalorganic chemical vapor deposition

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Descripción
Autoría

autor: Harish Parala  Shashi Paul  Heshmat Noei  Davide Barreca  Richard Cross  Detlef Rogalla 

Fecha de publicación mayo 2012
Idioma
País de origen
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Estatus de derecho de autor Desconocido
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