Erratum to: “Damage profiles in as-implanted 〈100〉 Si crystals: strain by X-ray diffractometry versus interstitials by RBS-channeling” [Nucl. Instr. and Meth. B 120 (1996) 64–67]
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| Descripción | artículo científico |
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| Fecha de publicación | marzo 1997 |
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| Estatus de derecho de autor | Desconocido |
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