Selective Electrodesorption-Based Atomic Layer Deposition (SEBALD) of Bismuth under Morphological Control
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Maurizio Passaponti Massimiliano Cavallini Vittorio Morandi Walter Giurlani Massimo Innocenti Fabiola Liscio |
| Fecha de publicación | 2018 |
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| País de origen | |
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