Internal Friction and Young's Modulus Measurements on SiO2 and Ta2O5 Films Done with an Ultra-High Q Silicon-Wafer Suspension - Dominio Público Uruguay

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Internal Friction and Young's Modulus Measurements on SiO2 and Ta2O5 Films Done with an Ultra-High Q Silicon-Wafer Suspension

artículo científico publicado en 2015

Autoría

Detalles de la obra

Fecha de publicación: 1 de abril de 2015

Idioma: Desconocido

País de origen: Desconocido

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