Soft Graphoepitaxy for Large Area Directed Self-Assembly of Polystyrene-block-Poly(dimethylsiloxane) Block Copolymer on Nanopatterned POSS Substrates Fabricated by Nanoimprint Lithography

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Descripción
Autoría	autor: Apostolos Avgeropoulos  Dipu Borah  K Ntetsikas
Fecha de publicación	27 de abril de 2015
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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