Hyperbranched Polymers for Photolithographic Applications - Towards Understanding the Relationship between Chemical Structure of Polymer Resin and Lithographic Performances

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Descripción
Autoría	autor: Christophe A Serra  Nicolas Leclerc  Raluca Tiron  Cyril Brochon
Fecha de publicación	20 de marzo de 2009
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Private domain
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