Measurement and modeling of Ar∕H2∕CH4 arc jet discharge chemical vapor deposition reactors. I. Intercomparison of derived spatial variations of H atom, C2, and CH radical densities - Dominio Público Uruguay

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Measurement and modeling of Ar∕H2∕CH4 arc jet discharge chemical vapor deposition reactors. I. Intercomparison of derived spatial variations of H atom, C2, and CH radical densities

Autoría

Detalles de la obra

Fecha de publicación: 15 de septiembre de 2007

Idioma: inglés

País de origen: Desconocido

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