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Depth redistribution of components of SiOx layers prepared by magnetron sputtering in the process of their decomposition

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Descripción
Autoría

autor: Larysa Khomenkova  N. Korsunska  Tatyana R Stara  Cinzia Sada 

Fecha de publicación junio 2007
Idioma
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Estatus de derecho de autor Desconocido
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