Low temperature thermal and plasma enhanced atomic layer deposition of ruthenium using RuO 4 and H 2 /H 2 -plasma

Imagen
Descripción
Autoría	autor: Jolien Dendooven  Matthias M Minjauw  Marc Schaekers
Fecha de publicación	mayo 2015
Idioma
País de origen
Enlace a Wikipedia
Estatus de derecho de autor	Private domain
¿Datos faltantes/errados?	Editar ítem de Wikidata