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C-Face Interface Defects in 4H-SiC MOSFETs Studied by Electrically Detected Magnetic Resonance

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Descripción
Autoría

autor: Takeshi Ohshima  Shinsuke Harada  Hajime Okumura  Mitsuo Okamoto 

Fecha de publicación febrero 2014
Idioma
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Estatus de derecho de autor Desconocido
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