Maskless, fast and highly selective etching of fused silica with gaseous fluorine and gaseous hydrogen fluoride

Imagen
Descripción
Autoría	autor: Roberto Osellame  Giulio Cerullo  Maurizio Sansotera
Fecha de publicación	23 de diciembre de 2013
Idioma
País de origen
Enlace a Wikipedia
Estatus de derecho de autor	Private domain
¿Datos faltantes/errados?	Editar ítem de Wikidata