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Nanoscale structural and chemical analysis of F-implanted enhancement-mode InAlN/GaN heterostructure field effect transistors

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Descripción
Autoría

autor: Giorgio Divitini  Martin Frentrup  Paul A J Bagot  Colin Humphreys  Tomas L. Martin  Fengzai Tang  Rachel Angharad Oliver  Jon Barnard 

Fecha de publicación 14 de enero de 2018
Idioma
País de origen
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