Nanoscopic Cylindrical Dual Concentric and Lengthwise Block Brush Terpolymers as Covalent Preassembled High-Resolution and High-Sensitivity Negative-Tone Photoresist Materials
| Imagen |  |
|---|---|
| Descripción | |
| Autoría |
autor: Sangho Cho Michael J. Eller Karen L. Wooley Emile A Schweikert |
| Fecha de publicación | 12 de marzo de 2013 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Private domain |
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