Growth and Characterization of Ti-Ta-O Thin Films on Si Substrates by Liquid Injection MOCVD for High-k Applications from Modified Titanium and Tantalum Precursors

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Autoría	autor: Harish Parala  Roland A Fischer  Reji Thomas  Davide Barreca  Hans-Werner Becker
Fecha de publicación	9 de junio de 2010
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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