A Practical, Self-Catalytic, Atomic Layer Deposition of Silicon Dioxide
| Imagen |  |
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Kornelius Nielsch Marius Grundmann Robert Zierold Roland Hauert Julien Bachmann Rüdiger Schmidt-Grund |
| Fecha de publicación | 1 de enero de 2008 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
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