Low temperature silicon dioxide by thermal atomic layer deposition: Investigation of material properties
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Margit Zacharias Frans Munnik Kornelius Nielsch Marin Alexe Daniel Hiller Robert Zierold Julien Bachmann |
| Fecha de publicación | 15 de marzo de 2010 |
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| País de origen | |
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