Aqueous Solutions for Low-Temperature Photoannealing of Functional Oxide Films: Reaching the 400 °C Si-Technology Integration Barrier
| Imagen |  |
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Jesús Ricote Marlies Van Bael M. Lourdes Calzada Ricardo Jiménez Iñigo Bretos |
| Fecha de publicación | 1 de agosto de 2011 |
| Idioma | inglés |
| País de origen | |
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