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Infrared Perfect Absorbers Fabricated by Colloidal Mask Etching of Al–Al2O3–Al Trilayers

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Descripción
Autoría

autor: Thang Duy Dao  Kai Chen  Satoshi Ishii 

Fecha de publicación 16 de junio de 2015
Idioma
País de origen
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Estatus de derecho de autor Desconocido
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