Atomic Layer Deposition of Cobalt Using H-, N-, and NH-Based Plasmas: On the Role of the Co-reactant

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Descripción
Autoría	autor: Martijn F J Vos  Adriaan Mackus
Fecha de publicación	5 de septiembre de 2018
Idioma	inglés
País de origen
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Estatus de derecho de autor	Desconocido
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