Effect of water dose on the atomic layer deposition rate of oxide thin films
| Imagen |  |
|---|---|
| Descripción | |
| Autoría |
autor: Antti Rahtu Raija Matero Markku Leskela Timo Sajavaara Mikko Ritala |
| Fecha de publicación | junio 2000 |
| Idioma | |
| País de origen | |
| Enlace a Wikipedia | |
| Estatus de derecho de autor | Private domain |
| ¿Datos faltantes/errados? | Editar ítem de Wikidata |