Properties of hafnium oxide films grown by atomic layer deposition from hafnium tetraiodide and oxygen
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| Descripción | |
| Autoría |
autor: Kaupo Kukli Markku Leskela Timo Sajavaara Mikko Ritala Anders Hårsta Jonas Sundqvist |
| Fecha de publicación | 15 de noviembre de 2002 |
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| País de origen | |
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