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Influence of thickness and growth temperature on the properties of zirconium oxide films grown by atomic layer deposition on silicon

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Descripción
Autoría

autor: Kaupo Kukli  Teet Uustare  Markku Leskela  Timo Sajavaara  Mikko Ritala  Anders Hårsta 

Fecha de publicación mayo 2002
Idioma
País de origen
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